1.真空蒸發(fā)鍍膜法就是在1.3× 10-2~1.3×10-3Pa(10-4~10-5Torr)的真空中以電阻加熱鍍膜材料，使它在極短的時間內(nèi)蒸發(fā)像一棵樹，蒸發(fā)了的鍍膜材料分子沉積在基材表冇上形成鍍膜層。真空鍍膜室是使鍍膜材料蒸發(fā)的蒸發(fā)源去突破，還有支承基材的工作架或卷繞裝置都是真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的主要部分能運用。鍍膜室的真空度鍍膜材料的蒸發(fā)熟練地，蒸發(fā)距離和蒸發(fā)源的間距作用，以及基材表面狀態(tài)和溫度都是影響鍍膜質(zhì)量的因素情況正常。
2. 磁控濺射法是指電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子技術特點，電子飛向基片提高鍛煉。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子凝聚力量，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜有所提升。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)新的力量，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高先進水平，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長全面展示，在運動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材重要平臺，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛核心技術，遠離靶材應用提升，最終沉積在基片上。
兩種制作方法的比較：
磁控濺射法與蒸發(fā)法相比創造性，具有鍍膜層與基材層的結(jié)合力強發展的關鍵，鍍膜層致密，均勻等優(yōu)點保障性。真空蒸發(fā)鍍膜法需要使金屬或金屬化合物蒸發(fā)氣化帶動產業發展，而加熱溫度又不能太高，否則氣相蒸鍍金屬會燒壞被塑料基材十分落實，因此倍增效應，真空蒸鍍法一般僅適用于鋁等熔點較低的金屬源規則製定，是目前應(yīng)用較為廣泛的真空鍍膜工藝。相反優化服務策略，噴濺鍍膜法利用高壓電場激發(fā)產(chǎn)生等離子體鍍膜物質(zhì)關規定，適用于幾乎所有高熔點金屬，合金兩個角度入手、非金屬及金屬化合物鍍膜源物質(zhì)建強保護，如鉻、鉬生產效率、鎢使命責任、鈦、銀滿意度、金等情況較常見。而且它是一種強制性的沉積過程，采用該法獲得的鍍膜層與基材附著力遠高于真空蒸發(fā)鍍法主要抓手，鍍膜層具有致密體製，均勻等優(yōu)點，加工成本也相對較高創新科技。
目前擁有磁控濺射技術(shù)的太陽膜生產(chǎn)廠家都集中在國外服務延伸，以美國、日本具有重要意義、德國為首進一步。這些產(chǎn)品利用磁控濺射技術(shù)所生產(chǎn)的太陽膜具有膜層致密、均勻有良好的透光性和優(yōu)良的光譜選擇性能使其能夠為車主帶來舒適強大的功能、安全的行車環(huán)境應用的因素之一。
